计算机芯片石版印刷术

一项开发中的新计算机芯片石版印刷技术，已经不只是如先前所想那样有可能成功，而是前景非常乐观。

罗彻斯特理工学院（RIT； NY， USA； www.rit.edu）Kate Gleason工程学院的纳米印刷技术研究中心主任、电子工程学教授Bruce Smith博士开发了一种称之为易逝波石版印刷术（EWL）的方法，这种方法可以在目前为止最小的半导体装置上进行成像。按Smith博士的说法，Yongfa Fan，RIT微体系工程博士计划的一位博士生，完成了这个小到只有26nm的成像，这种尺寸目前只用于超紫外波长。超过传统物理学的极限来获得图像，这个进步使得对小于二十分之一个可见光波长有了解决方法，他补充道。

如果以国际半导体技术路线图（http://public.itrs.net）作为参照，这项技术的出现至少比预期提前了五年，按照Smith博士的说法。这个路线图是由工业集团协会、政府组织、大学、制造商和供应商共同创立的，该路线图评估了半导体业的技术需求，以保证集成电路性能的进步可以满足未来的需要。

“浸渍石版印刷术已将光学成像技术推到了极限”，Smith博士评论道。“易逝波石版印刷技术使得将来这项研究可以继续很好地延续，在以前不敢想象的图像形成的那一时刻，这一结果非常令人兴奋。”

按Smith博士的说法：易逝波石版印刷术是一种“基础关键技术”，它可以让我们更好地理解如何制造标准部件，以供将来的微电子和纳米技术装置使用。在2006年2月21日于圣何塞市（CA， USA）举行的2006年微石版印刷技术研讨会上，Smith博士将会公布这项研究。该研讨会由国际光学工程协会发起举行。

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